Curso de Métodos experimentales En la Física PCF UNAM Cuernavaca, Agosto 2008
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Curso de Métodos experimentalesEn la Física PCF UNAM
Cuernavaca, Agosto 2008
Clase 2, Sistemas de vacío Dr. Antonio M. Juárez Reyes, ICF UNAM
Física Atómica, Molecular y óptica.
Cuernavaca, Agosto 2008
TEMARIO PARTE 1
I.- Instrumentos y conceptos básicos (Toño, 5 semanas)I.1.- Conceptos básicos de instrumentación
-Conceptos generales de seguridad en el laboratorio (eléctrica, de gases comprimidos, láseres y químicos. --El proceso de medida y asignación de incertidumbres.
I.2.- Instrumentos básicos2.1 sistemas de vacío.
-Conductancia, velocidad de bombeo,-bombas: Rotatorias, de diafragma, difusoras, turbo, de sublimación, ionicas. razón de compresión en bombas,
- transductores de presión, pirani, Bayer Alpert, Baratrón, análisis de gases residuales.
2.2 Instrumentos básicos de electrónica: -osciloscopios, generadores de señales, electrómetros, 2.3 Instrumentos avanzados-Amplificador Lock In-Integrador Boxcar-Monocromadores
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Sistemas de vacío.
1.- Motivación. ¿En qué se emplean sistemas de vacío? ¿Por qué empleamos sistemas de vacío en el lab?
2.- Conceptos generales
2.1 Mean free path, coeficiente de knudsen2.2 tasa de formación de monocapas2.3 coeficiente de “pegajosidad” –sticking coefficient-2.4 presión de vapor
3.- Conceptos específicos3.1 Velocidad de bombeo3.2 throughput3.3 conductancia
4.- Tipos de bombas
5.- Procedimientos prácticos.
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¿Ideas?.
Mencionenme aplicaciones prácticas de vacío…. .
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Las aplicaciones del vacío en la vida diaria son inmumerables:
1.- Iluminación de ciudades ( las lámparas de las ciudades están evacuadas, y después llenas Con gases nobles)
2.- Empaquetado de alimentos
3.- Criogenia.- Los contenedores de materiales criogénicos tienen una pared en la cual se practica el vacío, que es el aislante térmico ideal.
4.- Deposición de películas delgadas en lentes, joyas, etc..
.
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Las aplicaciones científicas son aún mas numerosas:
1.- Sistemas de soldado por impacto electrónico2.- Microscopía electrónica
3.- Procesamiento de semiconductores por ataque de plasma o Químico
4.- Aceleradores de partículas LHC
.
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Uno de los experimentos más cruciales de la física actualDepende totalmente de sus sistemas de vacío.
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Rangos de vacío
Presión atmosférica 760 Torr 101.3 kPa
Vacío Bajo 760 to 25 Torr 100 to 3 kPa
Vacío medio 25 to 1×10-3 Torr 3 kPa to 100 mPa
Alto vacío 1×10-3 to 1×10-9 Torr
100 mPa to 100 nPa
Ultra alto vacío 1×10-9 to 1×10-12 Torr 100 nPa to 100 pPa
Vacío extremo <1×10-12 Torr <100 pPa
Espacio exterior 1×10-10to <3×10-17 Torr 100 µPa to <3fPa
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En el lab, nuestros experimentos abarcan Las 3 primeras líneas
Presión atmosférica 760 Torr 101.3 kPa
Vacío Bajo 760 to 25 Torr 100 to 3 kPa
Vacío medio 25 to 1×10-3 Torr 3 kPa to 100 mPa
Alto vacío 1×10-3 to 1×10-9 Torr 100 mPa to 100 nPa
Ultra alto vacío 1×10-9 to 1×10-12 Torr 100 nPa to 100 pPa
Vacío extremo <1×10-12 Torr <100 pPa
Espacio exterior 1×10-10to <3×10-17 Torr 100 µPa to <3fPa
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2.- Conceptos generales2.1 Mean free path, y número de
knudsen2.2 tasa de formación de monocapas2.3 coeficiente de “pegajosidad” –sticking coefficient-2.4 presión de vapor
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Es posible probar que la Trayectoria libre media de unaMolécula en un gas a presión PEstá dada por:
Rango Presión (mbar)
mean free path
Presión ambiente 68 nm
Vacío Bajo 0.1-100 μm
Medium vacuum 0.1-100 mm
High vacuum 10 cm-1 km
Ultra high vacuum 1 km-105 km
Extremely high vacuum >105 km
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Dependiendo del nivel de presión, y para propósitos deVacío, un gas puede considerarse como un fluido o como Un conjunto de partículas individuales( viscous flow or molecular flow, respectivamente)
En el primer caso, se pueden emplear las ecuaciones de Navier-Stokes para modelar un fluido en un sistema de vacío. En el segundo caso, se emplea mecánica estadística o simulacionesmontecarlo
La distinción entre este tipo de regimenes se puede cuantificarEmpleando el número de knundsen, que se define, simplementeComo:
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La distinción entre este tipo de regimenes se puede cuantificarEmpleando el número de knundsen, que se define, simplementeComo:
Si Kn es muy pequeño, estamos en el régimen de fluidos.
Si Kn es igual o mayor que 1, se considera que el gas o fluidose encuentra en el régimen molecular
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2.2 coeficiente de “pegajosidad” – sticking coefficient2.3- tasa de formación de monocapas
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2.2 coeficiente de “pegajosidad” –sticking coefficient
Se define, sencillamente, como la razón de adsorción en una superfice, contra la razón de impacto de una especie molecular particular. Es inversamente proporcional a la exponencial de la temperatura y depende de la naturaleza de la superfice.
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2.2 coeficiente de “pegajosidad” –sticking coefficient
¿Por qué es importante?
Especialmente en aplicaciones de semiconductores o materiales nanoestructurados, dependiendo del coeficiente de stickiness, es necesario implementar sistemas de ultra-alto vacío ,con el fin de evitar monocapas de materiales indeseados.
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2.2 coeficiente de “pegajosidad” –sticking coefficient
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2.4 Presión de vapor. ( o presión de equilibrio de vapor)
Es la presión a la cual una substancia sólida ( dada una temperatura) se encuentra en equilibrio dinámico con la fase gaseosa.
Materiales con presión de vapor alta se denominan “volátiles” y no son buenos para ser usados en sistemas de vacío.
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Materiales con presión de vapor alta se denominan “volátiles” y no son buenos para ser usados en sistemas de vacío.
Los metales en general presentan presiones de vapor muy bajas a temperatura ambiente, por lo que se emplean en sistemas de vacío
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3.- Conceptos específicos3.1 Velocidad de bombeo3.2 throughput3.3 conductancia
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3.- Conceptos específicos3.1 Velocidad de bombeo Se refiere al la
tasa de desalojo de volumen de un gas, ejercido por una bomba. Esta cantidad se especifica en volumen/unidad de tiempo : dV/dt
3.2 throughput Q.- Se define como la velocidad de bombeo multiplicada por la presión del gas bombeado: p dV/dt. A una temperatura constante, t, el throughput equivale al número de moléculas bombeadas por unidad de tiempo.
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3.- Conceptos específicos3.3 Conductancia de tubos
Debido a la viscosidad de un gas, los tubos y conductosQue dirigen el flujo a través del sistema pueden presentar Fuerzas viscosas, que dependen en general de la geometríaDe los conductos. En general es un parámetro difícil deCalcular. Sin embargo se puede aproximar en casos idealizados
La conductancia se define como el trhoughput del gas dividido Entre el diferencial de presión:
Conductancia = throughput/ (P2-P1) = Q/DeltaP
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3.- Conceptos específicos3.3 Conductancia de tubos (ejemplos)
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3.- Conceptos específicos
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3.1 Vacuum Concepts ¿How are they used in practice? a) System Volumes, Leak Rates and Pumping Speeds
The system to be pumped has a System Volume, V, measured in liters, at pressure p (mbarr or Torr). It is pumped with a pump, with a Pumping Speed, S liter/s. There is a Leak Rate Q into the system, expressed in (mbar or Torr)liters/s. The Pump-down equation, which you can think about, is then:
pS = -Vdp/dt + Q.
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3.2 Vacuum Concepts
The leak rate is composed of two elements: Q = Ql + Qo, where Ql is the true leak rate (i.e. due to a hole in the wall) and Qo is a virtual leak rate. A virtual leak is one which originates inside the system volume; it can be caused by degasssing from the walls, or from trapped volumes, which are to be strongly avoided.
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2.2 Vacuum ConceptsThe solution of the pump-down equation has:
i) a short time limit: p = p0exp(-t/), with = V/S, where the leak rate is negliglible. This stage will be essentially complete in 10. Exercise 1. In the vaccucm system of the optogalvanic experiment, assess the volume of the chamber and tubes, and, using the rotary pump, determine thevalue of S,the effective pumping speed, assuming the leak rate to be negligible.
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2.2 Vacuum Concepts
ii) a long time limit: pu, the ultimate pressure = Q/S. If we don’t have any true leaks, Q Qo, which depends on the surface area, material and the treatment. For example, if the system volume V = 50 liter, roughly 50x20x50 cm3, then A is roughly 1 m2. Qo = qA, with a typical (good) value for q around 10-8 mbar.liter.m-2.s-1, pu = 2x10-10 mbar. This is a pressure to aim for after bakeout in surface science experiments. In plasma or spectroscopic experiment, 1x10-7 or -8 is usually good enough. The bakeout is required to desorb gases, particularly H2O, from the walls.
What is the pump needed to reach the Pu value stated?
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b) The Idea of Conductance
The pumping speed of the pump is reduced by the high impedance, or low conductance, of the pipework between the pump and the vacuum chamber. But, of course, large pipes increase both the system volume and the internal surface area. So, one needs to take care in the design of the system, to avoid obvious pitfalls. Typically pipes have a conductance Ci, and these are in series (draw). Then with the pump speed as S0, we have the effective pumping speed S given by
S-1 = Ci-1 +S0
-1,
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Exercise 2: using the value of S obtained in the exercise 1, and knowing the nominal value of the rotary pumps speed ( check the manuals or read straight from the) calculate the inverse of the effective conductance
Ci-1
of the whole vacuum tubing connecting the pump to the chamber.
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where Ci are measured in liters/s. In this case, inverse conductances and pumping speeds therefore add as add as resistances in series. Thus we need to choose Ci large enough so that S is not << S0; or equivalently, if S is sufficient, we can economise on the size (S0) of the pump. As with all design problems, we need to have enough in hand so that our solution works routinely and is reliable. On the other hand, over-provision is (very) expensive.
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-bombas: Rotatorias, de diafragma, difusoras, turbo, de sublimación, ionicas. razón de compresión en bombas,
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BOMBAS DE SUBLIMACION
Comparacion
Masss quadrupole
Se aplica un campo de radiofrecuencia ( con frecuencia variable) ( ver notas)
Solo algunas de las partículas, con razones q/m Dadas atraviesan el campo cuadrupolar sin deflectarse. Esas son detectadas por una Faraday cup o un channeltron.
Un espectro de masas como función de la frecuencia determina las especies presentes en el gas