Aula 14 Estabilidade Coloidal FernandoGalembeck

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  • Estabilidade coloidal: colides liofbicos

    Sis lioflicos so termodinamicamente estveis Sis liofbicos, emulses, espumas, aerosis, filmes

    finos e muitos outros sistemas coloidais tm uma estabilidade apenas cintica, que muitas vezes chamamos de estabilidade coloidal.

    Os fatores de estabilidade so diferentes: em emulses: a viscosidade do filme interfacial em espumas: a elasticidade do filme superficial.

    O caso mais importante: sis liofbicos, com duas teorias: a teoria DLVO e a teoria de Ise. A teoria DLVO tem aceitao mais universal, por isso ser

    considerada em detalhe.

  • Teoria DLVO: atrao de van der Waals e repulso eletrosttica

    Foras de van der Waals: molculas ou tomos neutros sempre se atraem e so atrados por cargas eltricas.

    So as responsveis por fenmenos fundamentais como a condensao de vapores e a cristalizao de molculas.

    So devidas a vrios tipos de interao: as interaes entre dipolos instantneos correlacionados (as foras de London), entre dipolos permanentes, entre dipolo permanente e dipolo induzido.

    O clculo das energias de interao entre pares de molculas feito usando-se expresses bem conhecidas, estabelecidas h vrias dcadas.

    A resultante das foras sempre positiva.

  • Qualquer superfcie tende sempre a aderir a qualquer outra superfcie?

    Segundo as foras de van der Waals: sim. Entretanto, o nosso dia a dia est repleto de excees a

    esta tendncia universal adeso entre superfcies. Explicao: foras de van der Waals so de muito curto

    alcance. Por exemplo, as foras (dispersivas) de atrao entre duas partculas esfricas, por exemplo dois tomos de argnio, diminuem com a sexta potncia da distncia entre as esferas.

    No caso de dois slidos com superfcies planas, a atrao entre estas dada por VA = -A/12pipipipiL2 (por unidade de rea)

  • Superfcies rugosas no aderem por foras de van der Waals

    Usando esta equao, verificamos que a energia de interao s atinge valores de ordem de grandeza de kTse a distncia entre as duas superfcies for de ordem de um nanometro. Em distncias maiores, a energia do par difere muito pouco da sua energia a uma distncia infinita, portanto no h atrao entre elas.

    Concluindo: partculas coloidais tendem a se unirem, isto , a coagularem, mas s a partir do momento em que a distncia entre elas se torne muito pequena, de ordem de grandeza de raios moleculares.

  • Repulso (ou atrao) eletrosttica Em uma disperso coloidal as partculas

    apresentam normalmente um potencial zetadiferente de zero, isto , tm um excesso de cargas positivas ou negativas. Se as partculas forem todas homogneas, as cargas provocaro a repulso entre elas, segundo a lei de Coulomb. Nesse caso, a fora repulsiva funo do inverso do quadrado da distncia entre as partculas. Para placas infinitas planas:

    VR = 64 no kTZ2 -1 exp (-D) onde Z = tanh (zeo/4kT)

  • Somando as energias de repulso e de atrao: Resultam curvas com as seguintes caractersticas:-energia zero, quando a distncia entre as partculas

    elevada;-quando a fora inica elevada, a energia de um par de

    partculas diminui quando a distncia entre as partculas diminui, tendendo a valores muito baixos (o mnimo primrio)

    -quando a fora inica pequena, medida que a distncia entre as partculas diminui h uma diminuio da energia at atingir um mnimo pouco profundo (o mnimo secundrio). Depois a energia aumenta at um mximo, e volta a diminuir at o mnimo primrio.

  • Portanto, h uma barreira de ativao causada pela repulso eletrosttica, para que as partculas se aproximem at tocarem-se, se a fora inica for baixa. Alm de colides liofbicos, esta repulso foi verificada em outros sistemas, particularmente nas espumas lquidas.

    Energia

    distnciaatrao

    resultante

    repulso

  • Coagulao rpida e lenta, regimes RLA e DLA

    Barreira energtica aproximao de partculas muito pequena: acoagulao muito rpida e limitada apenas pela difuso.

    Barreira muito grande: o sistema estvel indefinidamente. A relao entre uma taxa de coagulao e a taxa no limite de difuso

    chamada de fator de estabilidade, W. Quando a barreira aproximao das partculas de ordem de 25 kT, W = 109, isto , o sol muito estvel.

    So dois regimes principais de agregao: o regime de cintica limitada por reao, e o de cintica limitada por difuso.

    Cintica limitada por difuso muito rpida, e produz agregados muito abertos, de dimenso fractal elevada.

    No regime de cintica limitada por reao, h uma barreira energtica agregao, e as partculas se chocam vrias vezes at se juntarem. Neste caso, a dimenso fractal menor, correspondendo a um agregado mais compacto.

  • Outros fatores de estabilidade Repulso estrica: superfcie recoberta com um polmero

    adsorvido ou enxertado, em um bom solvente; h uma repulso entre as cadeias polimricas e, consequentemente, entre as partculas.

    Depleo: um mecanismo de estabilizao ou instabilizao de partculas coloidais, de descoberta mais recente. Em geral, causada por polmeros que no se adsorvem s partculas mas formam gradiente de potencial qumico no sistema.

    Hidratao: repulso devida s camadas de gua fortemente ligadas s superfcies das partculas.

    Interao hidrodinmica: taxas de cisalhamento do lquido contguo a superfcies slidas so sempre muito baixas. Isto introduz um importante fator de retardamento da aproximao de partculas.

    Soro na interface

  • Caractersticas da adsoro de polmeros

    Alta afinidade Basta ligar um segmento para que toda a cadeia

    esteja ligada Irreversibilidade

    Devido ao grande nmero de pontos de contacto

  • Adsoro de polmeros:O modelo de trens, alas e caudas

  • Estabilidade estricaRepulso entre superfcies, induzida pelo

    polmero adsorvidoQuando as partculas so secas, ocorre o

    colapso das cadeias do polmeroAo reintroduzir o solvente, o polmero

    intumesce e as partculas se separamDesde que no ocorra dessoro do

    polmero, o sistema se comporta como se tivesse estabilidade termodinmica.

  • Estabilidade eletrostrica Ocorre quando o polmero adsorvido um

    polieletrlito Poli(acrilato de sdio), carboximetilcelulose,

    protenas

    -

    -

    -

    -

  • Agregao induzida por polmeros de massa molar muito elevada

    Consequncia da adsoro de polmero de massa molar muito elevada.

    Uma cadeia se associa a mais de uma partcula.

    Bridging floculation: a cadeia forma pontes entre as molculas.

  • Agregao causada por polmeros Polmeros adsorvidos no so sempre estabilizantes. H

    pelo menos dois casos em que um polmero pode desestabilizar uma disperso coloidal:

    As partculas tm carga (digamos, positiva) e o polmero tem carga oposta (negativa). Neste caso, o resultado da adsoro a neutralizao das cargas da partcula, eliminando a repulso coulmbica.

    O polmero tem uma grande massa molar, e o grau de cobertura das partculas pequeno. Neste caso, uma mesma cadeia polimrica pode unir-se a duas ou mais partculas ao mesmo tempo, formando flocos e instabilizando a disperso.

  • Depleo: estabilizao

    Polmero no adsorve nas partculas mas dificulta a sua aproximao.

    A ausncia de polmero de alguma regio torna a sua presso osmtica muito elevada.

  • Depleo: instabilizao Polmero no adsorve

    nas partculas mas fora a sua aproximao.

    A ausncia de polmero de alguma regio torna a sua presso osmtica muito elevada: o solvente sugado para as regies que tm polmero.

  • Efeito de solventes

    O efeito depende do ltex e do solvente

    No h (ainda) um modelo para este fenmeno

    Atualmente imprevisvel

    Cardoso et al., 1998

  • Estabilidade de emulses

    A teoria DLVO no bem sucedida. A estabilidade (com relao coagulao)

    depende muito da viscosidade da interface gua-leo.

    Partculas de leo em gua ou gua em leo podem ser comprimidas e deformadas, sem coalescer: membrana.

  • Emulses estabilizadas por partculas slidas (Pickering)

    Partculas que tm molhabilidade semelhante, por gua e leo, acumulam-se na interface.

    Estabilizam a emulso: Viscosidade da interface Dificuldade no contacto

    entre os lquidos de duas gotas.

  • Estabilidade de filmes finos sobresubstrato slido

    O excesso de energia livre do filme sobre o substrato dado por:

  • Salar de Atacama, Chile

  • TiO2

    Silicona em TiO2